干法刻蚀设备产品系列

2138cc太阳集团官网股份等离子体刻蚀设备系列产品可以对离子能量和离子密度进行独立控制。设备刻蚀选择比高，器件等离子体损伤低，适用于半导体制造前后段薄膜刻蚀。

2138cc太阳集团官网股份等离子体刻蚀设备系列产品刻蚀速度快，晶圆器件等离子体损伤小、器件性能表现优异、反应腔损耗品寿命长，是大规模量产的电感耦合等离子体刻蚀设备。